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數(shù)字遞變異變贗襯底上2.6μm In0.83Ga0.17As/InP光電探測器的性能改進

師艷輝; 楊楠楠; 馬英杰; 顧溢; 陳星佑; 龔謙; 張永剛 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所信息功能材料國家重點實驗室; 上海200050; 中國科學院大學; 北京100049; 中國科學院上海技術物理研究所傳感技術聯(lián)合國家重點實驗室; 上海200083; 中國科學院上海技術物理研究所紅外成像材料與器件重點實驗室; 上海200083
  • 數(shù)字遞變
  • 異變
  • 緩沖
  • ingaas
  • 光電探測器

摘要:研究了In0. 83Al0. 17As /In0. 52Al0. 48As 數(shù)字遞變異變緩沖層結構( DGMB)的總周期數(shù)對2. 6 μm 延伸波長In0. 83Ga0. 17As 光電二極管性能的影響.實驗表明,在保持總緩沖層厚度不變的情況下,通過將在InP 襯底上生長的In0. 83Al0. 17As /In0. 52Al0. 48As DGMB 結構的總周期數(shù)從19 增加到38,其上所生長的In0. 83 Ga0. 17 As /In0. 83Al0. 17As 光電二極管材料層的晶體質量得到了顯著改善.對于在總周期數(shù)為38 的DGMB 上外延的In0. 83Ga0. 17As 光電二極管,觀察到其應變弛豫度增加到99. 8%,表面粗糙度降低,光致發(fā)光強度和光響應度均增強,同時暗電流水平被顯著抑制.這些結果表明,隨著總周期數(shù)目的增加,DGMB 可以更有效地抑制穿透位錯的傳遞并降低殘余缺陷密度.

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紅外與毫米波學報

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