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Plasma Chemistry And Plasma Processing 加入收藏

等離子化學(xué)和等離子處理 SCIE

Plasma Chemistry And Plasma Processing

較慢,6-12周 審稿時間

3區(qū)中科院分區(qū)

Q2JCR分區(qū)

2.6影響因子

0272-4324

1572-8986

PLASMA CHEM PLASMA P

UNITED STATES

工程技術(shù) - 工程:化工

1981

57

Quarterly

English

123

0.08...

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期刊簡介

等離子化學(xué)和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的一本工程技術(shù)-工程:化工學(xué)術(shù)刊物,主要報道工程技術(shù)-工程:化工相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊,該刊創(chuàng)刊于1981年,出版周期Quarterly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級:Q2,2023年發(fā)布的影響因子為2.6,CiteScore指數(shù)5.9,SJR指數(shù)0.48。本刊非開放獲取期刊。

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應(yīng)用(包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

中科院分區(qū)信息

等離子化學(xué)和等離子處理2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
等離子化學(xué)和等離子處理2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū)
等離子化學(xué)和等離子處理2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
等離子化學(xué)和等離子處理2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
名詞解釋:

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Plasma Chemistry And Plasma Processing(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170
46.8%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179
55%
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40
71.3%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171
68.13%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179
61.73%
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40
58.75%
名詞解釋:

湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計

1、Cite Score(2024年最新版)
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 108 / 434
75%
大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132
74%
大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering Q2 79 / 273
71%
大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry Q2 119 / 408
70%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對比及走勢

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱 引用次數(shù)
  • Effect of Cold Atmospheric Pressure Plas...

    23
  • Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Ind...

    14
  • Inactivation of Shewanella putrefaciens ...

    13
  • Seed Priming with Non-thermal Plasma Mod...

    13
  • Stimulation of the Germination and Early...

    12
  • Evaluation of Oxidative Species in Gaseo...

    12
  • Non-thermal Plasma Induced Expression of...

    11
  • Effect of the Magnetic Field on the Magn...

    9
  • On the Possibilities of Straightforward ...

    8
  • Plasma Activated Organic Fertilizer

    8

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    289
  • J PHYS D APPL PHYS

    241
  • IEEE T PLASMA SCI

    106
  • PLASMA SCI TECHNOL

    95
  • CHEM ENG J

    92
  • PLASMA SOURCES SCI T

    82
  • PLASMA PROCESS POLYM

    79
  • PHYS PLASMAS

    48
  • SURF COAT TECH

    46
  • J APPL PHYS

    39

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • J PHYS D APPL PHYS

    308
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    289
  • PLASMA SOURCES SCI T

    186
  • IEEE T PLASMA SCI

    101
  • PLASMA PROCESS POLYM

    97
  • J APPL PHYS

    74
  • CHEM ENG J

    69
  • APPL PHYS LETT

    64
  • APPL CATAL B-ENVIRON

    58
  • J CHEM PHYS

    53

國家/地區(qū)發(fā)文數(shù)據(jù)

國家/地區(qū)名 數(shù)量
  • CHINA MAINLAND

    70
  • Russia

    37
  • USA

    29
  • France

    26
  • GERMANY (FED REP GER)

    21
  • Czech Republic

    15
  • Iran

    14
  • India

    12
  • Japan

    12
  • Poland

    11

機構(gòu)發(fā)文數(shù)據(jù)

機構(gòu)名 數(shù)量
  • RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES

    24
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF...

    21
  • CZECH ACADEMY OF SCIENCES

    10
  • XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY

    10
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

    9
  • DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY

    9
  • COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA

    7
  • IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & ...

    7
  • STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA

    7
  • KOREA UNIVERSITY

    6

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