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Ieee Photonics Journal 加入收藏

IEEE光子學(xué)雜志 SCIE

Ieee Photonics Journal

約1.0個(gè)月 審稿時(shí)間

4區(qū)中科院分區(qū)

Q2JCR分區(qū)

2.1影響因子

1943-0655

1943-0647

IEEE PHOTONICS J

UNITED STATES

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS

2009

59

6 issues/year

English

347

0.08...

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期刊簡(jiǎn)介

IEEE光子學(xué)雜志(Ieee Photonics Journal)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-OPTICS學(xué)術(shù)刊物,主要報(bào)道ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-OPTICS相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來(lái)源期刊,該刊創(chuàng)刊于2009年,出版周期6 issues/year。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí):Q2,2023年發(fā)布的影響因子為2.1,CiteScore指數(shù)4.5,SJR指數(shù)0.558。本刊為開放獲取期刊。

光的產(chǎn)生、控制和利用方面的突破催生了光子學(xué)領(lǐng)域,這是一個(gè)發(fā)展迅速的科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,對(duì)技術(shù)和經(jīng)濟(jì)產(chǎn)生了重大影響。光子學(xué)將量子電子學(xué)和光學(xué)相結(jié)合,以加速新型光子源的產(chǎn)生及其在微觀和納米尺度新興應(yīng)用中的利用,這些應(yīng)用范圍從遠(yuǎn)紅外/太赫茲到電磁波譜的 x 射線區(qū)域。IEEE 光子學(xué)雜志是一本在線期刊,致力于快速披露光子學(xué)所有領(lǐng)域最前沿的高質(zhì)量同行評(píng)審研究。該期刊涵蓋從基礎(chǔ)理解到新興技術(shù)和應(yīng)用等各種問(wèn)題的投稿。該期刊包括以下主題:從遠(yuǎn)紅外到 X 射線的光子源、光子材料和工程光子結(jié)構(gòu)、集成光學(xué)和光電子、超快、阿秒、高場(chǎng)和短波光子學(xué)、生物光子學(xué)(包括 DNA 光子學(xué))、納米光子學(xué)、磁光子學(xué)、光傳播和相互作用的基本原理;非線性效應(yīng)、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光纖和光通信設(shè)備、系統(tǒng)和技術(shù)、微光機(jī)電系統(tǒng) (MOEMS)、微波光子學(xué)、光學(xué)傳感器。

中科院分區(qū)信息

IEEE光子學(xué)雜志2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
IEEE光子學(xué)雜志2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
IEEE光子學(xué)雜志2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
IEEE光子學(xué)雜志2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
IEEE光子學(xué)雜志2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
IEEE光子學(xué)雜志2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
名詞解釋:

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Ieee Photonics Journal(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 192 / 352
45.6%
學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 59 / 119
50.8%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 109 / 179
39.4%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 184 / 354
48.16%
學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 66 / 120
45.42%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 95 / 179
47.21%
名詞解釋:

湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》(Journal Citation Reports,簡(jiǎn)稱JCR)。JCR對(duì)86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

1、Cite Score(2024年最新版)
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 296 / 797
62%
大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 92 / 224
59%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對(duì)比及走勢(shì)

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱 引用次數(shù)
  • Surface Plasmon Resonance Sensor Based o...

    46
  • A Dual-Band Tunable Metamaterial Near-Un...

    23
  • The LED-ID Detection and Recognition Met...

    22
  • A Band Enhanced Plasma Metamaterial Abso...

    21
  • Tunable Plasmon Induced Transparency in ...

    20
  • Minimizing the Number of Spans for Terre...

    19
  • Surface Plasmon Resonance Based Titanium...

    18
  • Hybrid Photonic-Plasmonic Nonblocking Br...

    17
  • Analysis on Location Accuracy for the Bi...

    16
  • A Tilt Receiver Correction Method for Vi...

    15

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • OPT EXPRESS

    596
  • IEEE PHOTONICS J

    490
  • OPT COMMUN

    423
  • IEEE ACCESS

    394
  • J LIGHTWAVE TECHNOL

    338
  • APPL OPTICS

    252
  • OPT LETT

    180
  • SENSORS-BASEL

    156
  • OPTIK

    153
  • APPL SCI-BASEL

    149

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • OPT EXPRESS

    2004
  • OPT LETT

    1125
  • J LIGHTWAVE TECHNOL

    770
  • IEEE PHOTONIC TECH L

    601
  • IEEE PHOTONICS J

    490
  • APPL OPTICS

    470
  • APPL PHYS LETT

    455
  • PHYS REV LETT

    291
  • OPT COMMUN

    280
  • NAT PHOTONICS

    243

國(guó)家/地區(qū)發(fā)文數(shù)據(jù)

國(guó)家/地區(qū)名 數(shù)量
  • CHINA MAINLAND

    1195
  • USA

    136
  • Taiwan

    76
  • England

    48
  • Canada

    46
  • South Korea

    39
  • Japan

    38
  • Saudi Arabia

    34
  • India

    32
  • Singapore

    30

機(jī)構(gòu)發(fā)文數(shù)據(jù)

機(jī)構(gòu)名 數(shù)量
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

    176
  • HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOL...

    102
  • BEIJING UNIVERSITY OF POSTS & TELECOMMUN...

    64
  • SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY

    54
  • TIANJIN UNIVERSITY

    50
  • TSINGHUA UNIVERSITY

    50
  • BEIJING INSTITUTE OF TECHNOLOGY

    46
  • NANJING UNIVERSITY

    36
  • HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY

    34
  • SHENZHEN UNIVERSITY

    34

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