《International Journal Of Imaging Systems And Technology》雜志屬于中科院分區(qū)：4區(qū)，影響因子是：3。
出版周期：Bimonthly
OA是否開放：未開放
Gold OA文章占比：3.99%
是否預(yù)警：否
出版語言：English
中科院分區(qū)信息：
從大類學(xué)科分區(qū)來看，《International Journal Of Imaging Systems And Technology》雜志在中科院最新升級版分區(qū)表中位于計(jì)算機(jī)科學(xué)4區(qū)。計(jì)算機(jī)科學(xué)是一個廣泛的學(xué)科領(lǐng)域，涵蓋了從工程：電子與電氣的各個層面。該雜志能夠躋身4區(qū)，足以證明其在計(jì)算機(jī)科學(xué)領(lǐng)域內(nèi)的學(xué)術(shù)水平和影響力。
進(jìn)一步細(xì)分到小類學(xué)科，該雜志則屬于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣領(lǐng)域，位于4區(qū)。
中科院分區(qū)信息
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
國際成像系統(tǒng)與技術(shù)雜志2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 計(jì)算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY
成像科學(xué)與照相技術(shù)
OPTICS
光學(xué)
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
影響因子：3。從影響因子的角度來看，《International Journal Of Imaging Systems And Technology》雜志也表現(xiàn)出色，該雜志影響因子在不同年份有所波動，但總體呈上升趨勢，這種趨勢不僅反映了該雜志在學(xué)術(shù)界的影響力逐漸增強(qiáng)，也體現(xiàn)了其在推動工程技術(shù)-成像科學(xué)與照相技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展方面的積極作用。
從JCR分區(qū)信息的角度，
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分為：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，分區(qū)：Q2，排名：136 / 352，百分位：61.5%；IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，分區(qū)：Q2，排名：16 / 36，百分位：56.9%；OPTICS，分區(qū)：Q2，排名：39 / 119，百分位：67.6%；
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分為：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，分區(qū)：Q2，排名：138 / 354，百分位：61.16%；IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，分區(qū)：Q2，排名：14 / 36，百分位：62.5%；OPTICS，分區(qū)：Q2，排名：46 / 120，百分位：62.08%；
JCR分區(qū)信息
International Journal Of Imaging Systems And Technology（2023-2024年最新版數(shù)據(jù)）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 136 / 352 |
61.5%
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| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 16 / 36 |
56.9%
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| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 39 / 119 |
67.6%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 138 / 354 |
61.16%
|
| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 14 / 36 |
62.5%
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| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 46 / 120 |
62.08%
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湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
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