《Journal Of Laser Applications》國際標準刊號?ISSN：1042-346X，電子期刊的國際標準刊號：1938-1387。
創刊時間：1988年
出版周期：Quarterly
出版語言：English
國際簡稱：J LASER APPL
研究方向：光學 - 物理
期刊定位與內容：
激光應用雜志(Journal Of Laser Applications)是一本由Laser Institute of America出版的學術刊物，主要報道光學-物理相關領域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊，該刊創刊于1988年，出版周期Quarterly。
《激光應用雜志》發表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點介紹材料科學：綜合的最新關鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結，方便尚未深入研究的人閱讀。
《激光應用雜志》（JLA）是美國激光研究所（LIA）的科學平臺，與 AIP 出版社合作出版。其高質量文章涵蓋從基礎和應用研究與開發到工業應用的廣泛領域。因此，JLA 反映了光子生產、傳感和測量以及激光安全領域的研發現狀。
以下國際知名的一流科學家在 9 個新類別中擔任指定編輯：
使用超快激光器進行高精度材料加工
激光增材制造
使用高亮度激光器進行高功率材料加工
激光技術在高性能/多功能材料和結構中的新興應用
表面改性
納米制造/納米光子學和薄膜技術中的激光器
光譜/成像/診斷/測量
激光系統和市場
醫療應用和安全
熱傳輸
納米材料和納米加工
激光應用在微電子領域。
出版周期與發文量：
該雜志出版周期Quarterly。近年來，該期刊的年發文量約為166篇。
學術影響力：
2021-2022年最新版WOS分區等級：Q3，2023年發布的影響因子為1.7，CiteScore指數3.6，SJR指數0.422。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：3.6
- SJR：0.422
- SNIP：0.803
| 學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Instrumentation | Q2 | 66 / 141 |
53%
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| 大類：Physics and Astronomy 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 106 / 224 |
52%
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| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 145 / 284 |
49%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Biomedical Engineering | Q3 | 177 / 303 |
41%
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CiteScore：該指標由Elsevier于2016年提出，指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScorer的計算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發表的文章在2022年獲得的被引次數，除以該期刊2019年、2020年和2021發表并收錄于Scopus中的文章數量總和。
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