《中國專利與商標》雜志的復審具體時間可能因稿件內容和審稿進度有所波動，要了解詳細時間，可以聯系雜志社或咨詢在線客服。

以下是影響《中國專利與商標》雜志復審的因素：

（1）審稿人反饋速度：若審稿人回復較慢，可能延長復審時間。

（2）稿件修改情況：如需作者返修，復審時間會相應延長。

（3）《中國專利與商標》雜志排期：高峰期或年底可能審稿較慢。

（4）作者響應速度：作者若未在規定時間內提交修改稿，復審流程會相應延后。

為了提高復審效率，可以努力提高稿件質量、遵循投稿指南，并耐心等待審稿結果。

基本信息如下：

《中國專利與商標》作為國內政法類學術期刊，自1985年創刊以來始終秉持正確價值導向，以季刊形式涵蓋業內信息、專題文章、專利、商標、商業秘密、知識産權制度、視角等舉措，不斷提升學術品質與社會影響力。

主辦單位：中國專利與商標雜志社

主管單位：中國專利與商標雜志社

?創刊時間?：1985年

類別：政治軍事法律綜合

周期：季刊

雜志定位：以政法理論為主，涵蓋多個政法領域，旨在反映政法改革與發展的成果。

?收錄情況?：維普收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等知名數據庫收錄

雜志往年影響因子、被引次數統計表

關于影響因子的名詞解釋

影響因子：指該期刊近兩年文獻的平均被引用率，即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數。

綜合影響因子：是以基礎研究、技術研究、技術開發類科技期刊及引證科技期刊的人文社會科學基礎研究、應用研究和工作研究期刊作為期刊綜合統計源文獻計算，被評價期刊前兩年發表的可被引文獻在統計年的被引用總次數與該期刊在前兩年內發表的可被引文獻總量之比。

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