《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》國際標(biāo)準(zhǔn)刊號?ISSN：1932-5150，電子期刊的國際標(biāo)準(zhǔn)刊號：1932-5134。
創(chuàng)刊時間：2007年
出版周期：Quarterly
出版語言：English
國際簡稱：J MICRO-NANOLITH MEM
研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
期刊定位與內(nèi)容：
微納光刻技術(shù)雜志(Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems)是一本由SPIE出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于2007年，出版周期Quarterly。
《微納光刻技術(shù)雜志》發(fā)表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點(diǎn)介紹工程：電子與電氣的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發(fā)表同行評審的論文，內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學(xué)、開發(fā)和實(shí)踐，這些技術(shù)對于滿足電子、微機(jī)電系統(tǒng)、微光機(jī)電系統(tǒng)和光子學(xué)行業(yè)的需求必不可少。
出版周期與發(fā)文量：
該雜志出版周期Quarterly。近年來，該期刊的年發(fā)文量約為0篇。
學(xué)術(shù)影響力：
2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級：Q3，2023年發(fā)布的影響因子為0，CiteScore指數(shù)3.4，SJR指數(shù)0.393。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：3.4
- SJR：0.393
- SNIP：1.723
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering | Q2 | 299 / 672 |
55%
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| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 389 / 797 |
51%
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| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 113 / 224 |
49%
|
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 223 / 434 |
48%
|
| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 155 / 284 |
45%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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