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《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志拒稿后能轉刊嗎?

來源:好投稿網整理 2024-09-19 18:29:38

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志拒稿后是可以轉投其他期刊的, 但需要注意以下幾點:

一、確認拒稿狀態:在轉投之前,作者必須確保文章確實已被《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志拒稿。如果尚未收到明確的拒稿通知,建議耐心等待或主動向雜志社詢問審稿進度和結果。

二、修改論文:根據審稿意見修改論文,確保解決提出的問題,并改進論文的結構、方法、論證等方面。

三、轉刊操作建議

優先選擇同出版社期刊?:SPIE旗下其他物理與天體物理雜志可能更易接收。?

選擇匹配度更高的期刊:參考JCR分區、影響因子、收稿方向,避免因“主題不符”再次被拒。

附修改說明?:轉投時建議提交針對前次拒稿意見的改進說明,提升通過率。

四、注意事項

避免一稿多投,保持耐心和信心。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志概括

國際標準簡稱:J MICRO-NANOLITH MEM

創刊時間:2007年

出版商:SPIE

出版周期:Quarterly

出版語言:English

出版地區:UNITED STATES

ISSN:1932-5150,E-ISSN:1932-5134

收錄數據庫:SCIE

學科領域:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC)

期刊定位:專注于發表工程:電子與電氣領域的文章,旨在為研究人員提供該領域的最新研究成果和前沿動態。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志審稿周期預計為: 較慢,6-12周 ,年發文量:約0篇,H-index:37。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志數據

(2)分區情況

中科院分區:

大類學科:物理與天體物理2區。

小類學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣3區。

JCR分區:

按JIF指標學科分區分區:Q3區;

(3)CiteScore

CiteScore數值為3.4,( 小類學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,分區為Q2,百分位:55%。小類學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,分區為Q2,百分位:51%。)

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